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產(chǎn)品詳情

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

  • 產(chǎn)品/服務(wù):WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置
  • 單 價:面議 
  • 更新日期:2024-08-20
  • 有效期至:長期有效
  • 瀏覽次數(shù):1313
產(chǎn)品簡介

晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)一道重要制程,通過嚴(yán)格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片,降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi),最大...

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

關(guān)鍵詞:晶圓,均勻,6寸


晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)一道重要制程,通過嚴(yán)格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片,降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi),最大可以達(dá)到±0.03℃,是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。

主要技術(shù)參數(shù);

1、溫度:室溫-200℃,650℃,1000℃,

2、加熱速率:40℃/min,

3、加熱臺尺寸:6寸,8寸,12寸等可以定制

4、控溫精度:±1 ℃

5、加熱溫度均勻度允許誤差:±1℃ 

6、加熱臺需可抗壓:100KN

7、可配合各種電學(xué)測試設(shè)備進(jìn)行電學(xué)數(shù)據(jù)功能采集

8、表面處理:鍍膜,鍍金或是黑礬石

9、熱臺材質(zhì):不銹鋼或銅

10、可以配合各種電學(xué)測試系統(tǒng)及探針測試


               6寸晶圓在不同溫度下均勻性



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