近日，一篇名為《我國研制臺分辨力zui高紫外超分辨光刻裝備》的新聞報道在各大媒體瞬時刷屏，尤其是席卷了半導體領域，在相關業內人士的朋友圈、微博受到大量轉載。但該火熱現象背后，引發了業內專業人士的多方質疑。
 

 
  眾所周知，光刻機是制造芯片的核心裝備，我國在該領域長期落后，技術薄弱，話語權較低。而ASML光刻機以193納米波長光源，實現了達到7納米級的芯片蝕刻，其售價也達到近億美元。居高的產品成本和產品稀缺讓很多一度望而止步，一籌莫展。在高科技競爭嚴峻的當前，唯有提高創新技術能力，停止“拿來主義”，才能為半導體事業發展提供新出路，為科技大國建設提供源源不斷的新活力。
 
  發展核心高科技產業，需要持之以恒的投入，這貫穿在科學事業革新的每個階段。微納光學制造技術作為現代制造的重要方向，其水平高低也是體現一個綜合實力的標志之一。如何研制出面向微納光學結構制造的光刻裝備是相關科研工作者不懈的追求。
 
  打破多年技術壁壘，11月29日，重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，該裝備用365nm波長的紫外光單次成像實現了22nm的分辨率，為光學超材料/超表面、第三代光學器件、傳感芯片等納米光學加工提供了全新的解決途徑。該事件一經報道，讓業內沸騰不已，業內相關企業借勢宣傳，蠢蠢欲動。
 
  國產光刻機是“真牛”還是“吹?！?？對此爭議不斷。一些媒體是夸大報道，《國產光刻機偉大突破，國產芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》等謠言肆意傳播，這同樣被一些外行人斷章取義，認為半導體芯片大步發展，實現。
 
  在此過程中，不少業內人士或一些專業媒體從業者經過專業判斷與求證，狠狠打擊了不實報道。據悉，等離子體(surface plasmon,SP)光刻機屬于接觸式光刻，適用于光纖領域、5G天線等特殊應用，或者是用于科研領域的單光子探測器。這對于實驗室科研、軍工等領域意義突出，可以一定程度上替代現在的e beam光刻。
 
  但肯定科研成果并不意味著可脫離實際應用影響。在項目驗收會上，也明確表示用于芯片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。中科院研制的光刻機該裝備還不具備用于產線上微電子芯片的制造能力，不能代替微電子芯片的制造。
 
  經過相關資料和專li查詢，上SP光刻機的研究機構少，主流的光刻機生產商都未投入相關的研究。主要原因被認為是無法應用于商用芯片的制造，該技術存在應用缺陷。當然，這并不是說否定科研成果，需要注意的是，在光刻機領域，還需要很長時間的研究投入和持續探索。
 
  隨著人工智能的技術發展，以及物聯網、節能環保、新能源等戰略性新興產業推動，半導體的市場需求將持續增加。前瞻網數據顯示，2018年半導體設備銷售額預計達到118.1億美元。縱觀我國半導體市場，半導體設備國產化率為20%，市場被國外巨頭壟斷。這一市場現狀正同樣倒逼著相關技術的迫切研發。
 
  說到底，在光刻機研制方面，科學家正歷經漫漫長路。唯成果論本就不是科學正確的態度。對待科技的每一次突破，社會各界都應理性對待，戒驕戒躁，既不夸大其詞，也不妄自菲薄，還科研創新一個健康、公正、積的利好環境。