折射率是反映介質光學性質的重要參數之一。本儀器采用的實驗方法，在光學測量中具有典型性和基本要求的特點。用測布儒斯特角的方法測量透明介質的折射率及利用測量激光照射半導體薄片的反射系數方法，測量部分半導體如硅、砷化鎵等介質的折射率。本儀器具有體積小，重量輕，調節方便，裝置牢靠，實驗數據穩定可靠等優點。本儀器可用于基礎物理實驗，設計性與研究性物理實驗及物理奧林匹克競賽培訓實驗用。本儀器具有以下優點：

　　1.采用高強度優質鋁合金材料制成，表面經陽氧化處理 ,儀器重量輕、體積小、耐用、不會生銹，使用壽命長。

　　2.帶有刻度的轉盤經精心設計和加工，轉動輕巧靈活，讀數準確。

　　3.采用數字式光功率計測量偏振光光強，測量結果穩定可靠。

　　4.有黑色遮光罩擋光，可在明光及通風條件下做光學實驗，在同一實驗室各組實驗互不干擾。

　　應用本儀器可以完成以下實驗：

　　1. 光的偏振現象的觀察和分析，加深對光偏振規律的認識。掌握獲得線偏振光的知識及確定偏振片偏振方向的方法。

　　2. 用布儒斯特定律，測量對可見光透明固體材料的折射率。

　　3．通過測量偏振光二個分量入射到介質上反射光的反射系數，測量半導體硅等材料的折射率。

　　儀器主要技術參數：

　　1. 半導體激光器 波長650nm，功率 1.5-2.0mW，工作電壓3V。

　　2. 轉盤 直徑為2.0cm，可調范圍0-360°，分度值1°。

　　3．水平光學轉臺 可 0-360゜轉動，分度值 1°。

　　4．數字式光功率計 量程有200uW和2mW二檔，三位半液晶顯示。