該系統為多源蒸發鍍膜系統， 系統可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜。系統主要由鍍膜室、金屬蒸發源(2套獨立，配電源)、旋轉樣品臺、分子泵組、真空測量系統、膜厚儀、氣路系統、電控系統等組成

安徽貝意克設備技術有限公司是一家專注于新材料、新能源、高端裝備設備的研發生產與一體的高新技術企業，合肥市科技小巨人培育企業。公司擁有多名專家顧問，其中千人一位，青年千人2位，教授3位。公司擁有400平米的重點實驗室，部分實驗室對外開放。公司擁有31項，其中發明6項、實用新型23項、外觀2項。涉及領域包括，石墨烯、碳納米管、高溫熒光粉、OLED有機小分子材料、PECVD系統等。公司產品有智能高低溫CVD系統、PECVD系統、各種真空氣氛管式爐、高低溫箱式爐、等離子清洗設備、RF濺射設備、各種壓力的手動自動壓片機、各種功能尺寸的手套箱、球磨機、氧化鋯齒科燒結爐等。

 一、系統功能及構成

  1. 該系統為多源蒸發鍍膜系統， 系統可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜。系統主要由鍍膜室、金屬蒸發源(2套獨立，配電源)、旋轉樣品臺、分子泵組、真空測量系統、膜厚儀、氣路系統、電控系統等組成。

  2. 鍍膜極限真空度：≤10-5 Pa (經烘烤除氣后);

  真空獲得采用分子泵(1200L/S)和機械泵(8L/S)+CF200主閥組成，此配置具有抽速快，可獲得高真空環境，提供薄膜的潔凈度。

  真空泵組前配有冷凝過濾井，放置蒸發材料污染真空系統。

  系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S;

  系統從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達到5x10-4 Pa;

  系統停泵關機1小時后真空度：≤5Pa

  3. 鍍膜室中配有2組熱蒸發源，、分布在一個圓周上(下底蓋位置均勻分布)，各源可獨立/順次工作，配個圓形旋轉擋板，擋板缺口移到哪個工位，哪個工位材料可以蒸發。

  4. 樣品臺布置在真空室上部，可放置最大6英寸樣品1片，樣品具有連續旋轉功能，旋轉0—30轉/分連續可調。

  5. 真空測量采用進口INFICON 全量程規進行測量。

  6. 系統配有二路國產口MFC控制進氣系統，流量分別為100SCCM、50SCCM。

  7. 系統配有1個INFICON膜厚儀。

 

  二、系統的主要組成及技術指標

  濺射室極限真空度：≤10-6Pa(經烘烤除氣后);

  系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-8Pa.l/S;

  系統從大氣開始抽氣：濺射室35分鐘可達到5x10-4 Pa;

  1、濺射真空室

  真空室為方形前開門結構，尺寸350mmx400mmx350mm(寬X高X深)全不銹鋼結構?？蓛群婵镜?00～150℃，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行電化學拋光國內首家鈍化處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;手動前開門結構;蒸發源安裝在下蓋板，基片轉臺在頂部，左側面設置有光纖旋轉裝置。

  2、鍍膜源

  2套蒸發源;

  3、旋轉轉基片臺

  3.1 基片尺寸和數量：6英寸樣品一次放置1片。

  3.2、基片公轉由調速電機驅動，0—30轉/分連續可調，轉動速度

  4、工作氣路

  4.1、100SCCM、50SCCM質量流量控制器(國產)、DN6電動截止閥、管路、接頭等：共2路

  5、抽氣機組及閥門、管道

  5.1、分子泵;

  5.2、機械泵：;

  5.3、DN40電動截止閥：1臺;

  5.4、機械泵與真空室之間的旁抽管路：1套;

  5.5、CC200氣動閘板閥：1臺;

  5.6、DN40旁抽角閥：1臺

  5.7、配備一套低溫冷阱及壓縮機組件

  6、安裝機臺架組件

  優質方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理;機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾;四只腳輪，可固定，可移動。

  7、真空測量

  濺射室采用進口INFICON 復合規進行測量。

  8、系統采用PLC+觸摸屏半自動控制方式

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