Research-電子束蒸發鍍膜

成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設備的技術提升，在服務領域深耕細作，具有較深的技術沉積。
公司成立以來，秉承“超越極限，邁向卓越”的核心價值觀，在自己所擅長領域為客戶提供優良的產品和技術解決方案，公司注重產品和運營模式創新，我們堅信：唯有創新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業單位進行橫向合作，形成了科研級、工業級、軍品級產品體系，已為客戶設計制造了多套專用設備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽。

●該設備為電阻、電子束或電阻電子束復合鍍膜系統，同時兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜，過流部件均采用SUS304制造，真空系統后置，標準配置分子泵系統，標配工業級人機界面和西門子PLC系統，手動和自動模式自由切換，能夠滿足工業客戶小批量生產和科研院所客戶科研實驗的需求。該系列設備不提供全手動操作控制系統。

形式：箱式一體機，立式前開門，蒸發室和抽氣室為整體焊接式，一體機系統。

●真空系統：極限真空5X10-4Pa，主泵為復合分子泵。

●真空測量：配三路數字復合真空計，均采用安全防爆金屬測量規。

●工件架系統：客戶需求定制，配置可擴展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝，轉速3～30rpm變頻可調，工件盤為球形和行星工件盤可選，行星工件盤成本較高。

●烘烤系統：不銹鋼鎧裝加熱器匹配數字功率控制器和PID控制模塊，烘烤溫度300℃，溫控精度1℃，過沖不超過2℃。

●電子束蒸發源：E型電子束蒸發源系統(E型)1套，主體有屏蔽罩，單槍、單電源、單掃描，配置獨立高壓控制柜。

●坩堝：坩堝1套，電動轉位和點動轉位，配置無氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。

●電阻蒸發源：2套電阻蒸發源。（選配）

●膜厚測試系統：配瑞士inficon石英膜厚在線測量系統， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探頭。

●離子源輔助沉積系統：一套（選配離子源或高壓離子轟擊系統）

●控制系統：成熟可靠的真空鍍膜控制系統，工業級10英寸觸摸屏和西門子PLC，能夠實現抽真空、工轉烘烤、自動充氣、自動鍍膜、自動冷卻放氣等鍍膜生產流程；支持半自動和手動等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動報警和保護系統，采用聲光報警。

●說明：根據用戶要求，公司愿與客戶聯合研發，共享知識產權，公司致力于工藝與設備完美匹配。

本頁產品地址：http://www.okbaiwei.com/sell/show-9483926.html